LED之工业制程上的光敏材料
光阻,亦称为光阻剂,是一个用在许多工业制程上的光敏材料。像是光刻技术,可以在材料表面刻上一个图案的被覆层。
 
光阻有两种,正向光阻(positive photoresist)和负向光阻(negative photoresist)
正向光阻是光阻的一种,其照到光的部分会溶于光阻显影液,而没有照到光的部份不会溶于光阻显影液。 
 
负向光阻是光阻的一种,其照到光的部分不会溶于光阻显影液,而没有照到光的部份会溶于光阻显影液。
 
正型光阻剂及负型光阻剂主要是应用在LED芯片制造的金属电极蒸镀Lift-off制程中,由于LED电极所使用的金属材料不易经由蚀刻的方式制作电路图形,所以利用拔起(Lift-off)微影制程,得到突起的(Overhang)光阻图形,使金属在蒸镀过程中不会连续性满布在光阻剂上,再用去光阻剂的方式将未遭金属布盖的光阻部份拔起,完成金属电极的图案。
 
半导体制程常用的正型光阻剂,在光学曝光方式下,光阻剂上层接受能量较下层光阻高,使得正型光阻剂成像大部份图形为上窄下宽,无法经一次曝光方式即得到Overhang的图形,而负型光阻剂的成像恰好与正型光阻剂图像相反,所以负型光阻剂是lift-off制程的最佳选择。
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